Tautan-tautan Akses

China Keluarkan Panduan Lebih Ketat Untuk Lindungi Paten dan Hak Cipta


Sebuuah tas merek LVMH palsu dipajang di depan toko Louis Vuitton di Chevy Chase, Maryland, AS.

China mengeluarkan panduan baru yang lebih ketat terkait perlindungan paten, hak cipta dan hak atas kekayaan intelektual. Langkah itu kemungkinan diambil untuk membantu memperlancar perundingan perdagangan dengan AS yang kini terhenti.

Panduan yang dirilis Minggu malam (24/11) oleh Dewan Negara atau Kabinet dan oleh Komite Pusat Partai Komunis yang berkuasa, memperketat peraturan untuk melindungi hak-hak atas kekayaan intelektual (HAKI), menaikkan denda pelanggaran dan meningkatkan penegakan hukum atas UU yang sudah ada.

Panduan baru itu menjadikan perlindungan HAKI sebagai salah satu kriteria untuk mengevaluasi kinerja pemerintah lokal dan menambah insentif yang lebih besar bagi yang memenuhinya.

Dalam beberapa dekade belakangan, para pejabat dinilai hanya berdasarkan kesetiaan politik dan perkembangan ekonomi di wilayah mereka. Baru-baru ini, para pemimpin China menambahkan faktor perlindungan lingkungan ke dalam penilaian semacam itu. Menawarkan promosi dan insentif bisa memberikan motivasi lebih kuat untuk menegakkan UU semacam itu.

Pencurian dan pengalihan teknologi secara paksa, kurangnya perlindungan atas hak cipta, paten dan merek, sering dikeluhkan oleh perusahaan-perusahaan asing yang beroperasi di China. Isu-isu itu juga termasuk faktor penting dalam ketegangan terbaru dalam perang dagang antara China dan AS. (vm/my)

Recommended

XS
SM
MD
LG